用途

适用于科研单位进行材料新工艺薄膜研究；

也可用于小批量，高精度薄膜材料制备工作。

选配全自动控制系统后可实现全过程自动控制。

特征

1、制膜种类：适用于在塑胶，玻璃，陶瓷等材料质的工件上镀制金属膜。装饰膜，硬质膜或光学膜等。

2、镀膜室尺寸：450×500mm,配球面拱形旋转夹具，转速0～30r／min;

3、 真空系统：DH450-ZZK：大抽速2ZX-8机械泵+K-200不锈钢扩散泵；DH450-ZZF：可抽速2ZX-8机械泵+FF160/620分子泵。

4、工作烘烤：室温300 ℃ 可控可调﹝PID控温﹞；

5、恢复真空：DH450-ZXK：5×10-3Pa﹝小于15min﹞；

DH450-ZZF:2×10-3Pa ﹝小于20min﹞ ；

6、极限真空：DH450-ZZK：1×10-4Pa；DH450-ZZF：6.7×10-5Pa 。

7、可选配件：离子辅助镀膜系统：有高压离子轰击；RF离子轰击；离子源等可选配；膜厚测量系统：光学膜厚测量系统；石英晶振测厚仪两种可选配；全自动操作控制系统；5.4英寸彩色触摸屏，三菱PLC可选配；负偏压，反溅清洗组件可选配；循环水机组可选配。

8、 供电电源：三相380V，50HZ；特殊规格可定制。